新一代管式真空燒結(jié)爐主要用于半導(dǎo)體元器件及電力整流器件的燒結(jié)工藝，可進(jìn)行真空燒結(jié)，氣體保護(hù)燒結(jié)及常規(guī)燒結(jié)。是半導(dǎo)體專用設(shè)備系列中一種新穎的工藝裝備，它設(shè)計(jì)構(gòu)思新穎，操作方便，結(jié)構(gòu)緊湊，在一臺(tái)設(shè)備上可完成多個(gè)工藝流程。亦可用于其他領(lǐng)域內(nèi)的真空熱處理，真空釬焊等工藝。設(shè)備分為單工位、雙工位及多工位。

真空燒結(jié)爐技術(shù)指標(biāo)
◆真空室工位：1～3工位
◆工作溫度：200°C～1000°C
◆控溫精度:≤±1°C
◆恒溫區(qū)長(zhǎng)度：≥1000mm（恒溫區(qū)長(zhǎng)度可制定）
◆真空度：1.33×10^-1Pa～1.33×10^-3Pa
◆工作室內(nèi)徑：φ350mm（工作室內(nèi)徑可制定）
◆ 工作方式：自動(dòng)、手動(dòng)

真空燒結(jié)爐特點(diǎn)
◆關(guān)鍵件全部采用進(jìn)口件，具有高可靠性。
◆具有可編程的升、將溫功能。
◆具有斷電報(bào)警、超溫報(bào)警、極限超溫報(bào)警等多種安全保護(hù)功能。
◆具有高抗干擾能力。
◆具有多種工藝管路，可供用戶隨意靈活配置。