超純水設(shè)備http://www.water-lj.com/cp3/

超純水設(shè)備，是指采用某種合適的工藝，制備出符合某種高端產(chǎn)品用水的設(shè)備，其水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，同時不離解的氣體、膠體以及有機(jī)物（包括細(xì)菌）也去除至很低程度的水。其電導(dǎo)率一般為0.1~0.055uS/cm，電阻率（25℃）＞10MΩ?cm ，含鹽量＜0.1㎎/L.理想純水(理論上)電導(dǎo)率為0.055 uS/cm，電阻率（25℃）為18.3MΩ?cm。常見在半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。由于超純水的制備要求較高，現(xiàn)今市場上能夠制備出此種水質(zhì)的原料也較少，其主要工藝可分為如下兩種方式，以下就對常見的超純水設(shè)備工藝的性能特點及主要工藝流程做簡要的概述：

超純水設(shè)備的性能特點及主要工藝流程

1、傳統(tǒng)工藝：自來水→砂濾器→碳濾器→軟水器→保安過濾器→一級反滲透→混合床
　此種工藝為較早的制備超純水的工藝，其出水水質(zhì)可達(dá)到15-18MΩ?cm，多年來在諸多的使用者中已熟練應(yīng)用，同時又有低廉的初期制作成本，因此在較多的人眼中，超純水設(shè)備即為此種傳統(tǒng)工藝設(shè)備；但其也擁有不足的地方，如：混床的再生需使用酸、堿，在再生的途中又不可連續(xù)制水，此時就帶來了運(yùn)行費用的增加、操作人員的壓力及熟練程度加強(qiáng)、對于需連續(xù)造水的用戶需備混床，現(xiàn)場再生完的污水的排放又帶來了“環(huán)保”的問題，以上諸點因素現(xiàn)實使用者帶去了思考。
2、新進(jìn)工藝：自來水→砂濾器→碳濾器→軟水器→保安過濾器→一級反滲透→二級反滲透→EDI裝置→拋光混床→精密過濾器
　此種工藝為近些年新起的一種，環(huán)保、高較的超純水制備工藝，在短短數(shù)年時間內(nèi)已被諸多的使用者接受，并使用于真實案例中，其與傳統(tǒng)工藝的區(qū)別主要在于EDI裝置部份，在些，要想更多的了解此套工藝，需先對EDI進(jìn)行述說：
　電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用。這種先進(jìn)技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認(rèn)可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。

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