適用于2″—8″硅片的腐蝕 。
本設(shè)備適用于半導(dǎo)體工藝中對(duì)硅片周邊進(jìn)行濕法化學(xué)腐蝕形成均勻一致的斜角，本設(shè)備技術(shù)先進(jìn)，適用于規(guī)模生產(chǎn) 。
設(shè)備是由電氣控制、機(jī)架、箱體、清洗槽、機(jī)械手、伺服系統(tǒng)、層流凈化、管路部分構(gòu)成。
清洗槽是由去離子水洗槽、有機(jī)溶劑槽、酸槽、或堿槽等構(gòu)成。
電控部分：人機(jī)接口為觸摸屏，方便美觀，可存儲(chǔ)多套工藝，便于不同規(guī)格的硅片腐蝕。