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全新SWIFTXS拉曼光譜儀特點(diǎn)

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    面議
  • 可售數(shù)量:
  • 品牌名稱:
  • 所在地:
    四川成都
  • 產(chǎn)品規(guī)格:
  • 包裝說明:
暫時(shí)無圖
  • 商品名稱:全新SWIFTXS拉曼光譜儀特點(diǎn)
  • 自定義分類:機(jī)械
  • 上架時(shí)間:2021/3/1 10:50
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產(chǎn)品關(guān)鍵詞: 拉曼光譜儀,,,

進(jìn)口拉曼光譜儀  

無懼以往拉曼成像過程中的共焦和靈敏度等挑戰(zhàn),全新SWIFTXS超快速成像拉曼光譜儀,實(shí)現(xiàn)毫秒級別超快速、高分辨拉曼成像,幫助用戶專注獲取成像的細(xì)節(jié)和化學(xué)信息。  

實(shí)現(xiàn)毫秒級別超快速、高分辨拉曼成像  

全新SWIFTXS拉曼光譜儀  

”  

無懼以往拉曼成像過程中的共焦和靈敏度等挑戰(zhàn),全新SWIFTXS超快速成像拉曼光譜儀,實(shí)現(xiàn)毫秒級別超快速、高分辨拉曼成像,幫助用戶專注獲取成像的細(xì)節(jié)和化學(xué)信息。  

01配備優(yōu)化EMCCD,*呈現(xiàn)超快速成像技術(shù)優(yōu)勢  

超快速  

高達(dá)1400條光譜/s,可幾秒內(nèi)獲取拉曼成像圖,節(jié)省測樣時(shí)間,快速分析大量樣品。  

高精度  

單個(gè)成像圖可達(dá)百萬像素,不僅保證大面積成像,同時(shí)可獲取超精細(xì)成像圖。  

高精度圖像(>260萬張光譜):  

1.9cm×0.9cm藥片成像圖,局部放大后顯示更細(xì)節(jié)的藥物各成分分布圖  

高靈敏  

即使對于弱信號、有熒光*的生物樣品,同樣能進(jìn)行超快速成像。  

細(xì)胞微管成像,掃描范圍92μmx71μm,  

共40533條光譜,步長400nm,總成像時(shí)間:5min15s。  

綠色和黃色分別對應(yīng)蛋白質(zhì)和DNA的分布。  

高空間分辨率  

HORIBA拉曼系統(tǒng)的真共焦性能,確保利用佳空間分辨率分析小顆?;蛘弑訕悠?,支持3D成像。  

1μm聚集小球超快速拉曼成像結(jié)果。  

左:共聚焦成像結(jié)果,獲得非常清晰的小球輪廓;  

右:非共焦成像結(jié)果,無法將單個(gè)小球分開  

多種成像功能  

支持偏振成像、超低波數(shù)成像、PL成像等多種成像功能,全面分析樣品  

3英寸MQW半導(dǎo)體晶片的超快速PL圖像  

顯示發(fā)射波長(左圖)和峰寬(右圖)的分布情況,反映整個(gè)晶片的材料質(zhì)量  

共23,409條光譜,總采集時(shí)間7m:10s  

2多種工作模式,滿足樣品多樣化檢測需求  

標(biāo)準(zhǔn)模式  

采用CCD慢掃操作,適用于信號弱樣品或者單點(diǎn)曝光時(shí)間長于1s的樣品測試  

SWIFTXS-Ultra模式  

超快速成像,高達(dá)1400條光譜/s,適用于強(qiáng)信號樣品  

SWIFTXS-HC模式  

結(jié)合超快速成像和信號增強(qiáng)功能,增加弱信號樣品的信噪比和圖像對比度  

示例1標(biāo)準(zhǔn)模式和SWIFTXS-Ultra模式對比  

背景:對同一樣品區(qū)域(1-6層石墨烯)做成像分布圖,數(shù)據(jù)點(diǎn)皆為28080條光譜  

結(jié)果:  

·使用標(biāo)準(zhǔn)模式精細(xì)掃描,需要1個(gè)多小時(shí)  

·使用SWIFTXS-Ultra模式,在1-2分鐘內(nèi)完成成像的同時(shí),依然獲得很好的層數(shù)分布信息  

示例2標(biāo)準(zhǔn)模式和SWIFTXS-HC模式對比  

背景:對聚合物小球做成像分布圖,單點(diǎn)曝光時(shí)間為10ms/點(diǎn)  

結(jié)果:SWIFTXS-HC模式可以更地區(qū)分樣品和背景噪音,從而獲取更清晰分布圖  

應(yīng)用實(shí)例  

BaSO4顆粒在HDPE聚合物基質(zhì)中的3D成像圖  

·每點(diǎn)曝光時(shí)間:50ms  

·數(shù)據(jù)點(diǎn):13,320  

類胡蘿卜素(綠色)在洋蔥表皮細(xì)胞中的分布圖  

·每點(diǎn)曝光時(shí)間:3ms  

·數(shù)據(jù)點(diǎn):53000  

赤鐵礦在石英中的分布圖  

·每點(diǎn)曝光時(shí)間:3ms  

·數(shù)據(jù)點(diǎn):55695  

刻蝕硅中的硅晶格分布,格子間距~1μm  

·每點(diǎn)曝光時(shí)間:1.2m  

·數(shù)據(jù)點(diǎn):40200  

更多應(yīng)用案例,請參考應(yīng)用報(bào)告與文章:  

典型應(yīng)用  

材料  

·二維材料層數(shù)分布  

·復(fù)合材料成分分布  

·材料表面修飾程度分布  

·摻雜/缺陷分析  

生物/藥物  

·生物組織成分分布  

·藥物主成分和輔料分布  

·藥物多晶型分布  

·藥物在細(xì)胞中的分布  

地質(zhì)  

·礦物組成成分分布  

·包裹體分布  

·缺陷分析  

·珠寶/玉石組成分布  

LED/半導(dǎo)體  

·圓晶片質(zhì)量控制  

·應(yīng)力分布  

·摻雜/缺陷分析  

·PL成像  

更多:進(jìn)口拉曼光譜儀https://www.chem17.com/st195664/list_1425214.html  

https://www.chem17.com/st195664/product_26119997.html


產(chǎn)品關(guān)鍵詞: 拉曼光譜儀,,,
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