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黑硅技術的要點是：通過將表面加工成長度為0.8μm左右的劍山形狀，大幅減少了反射；背面電極型；在單元正面和背面形成防復合膜（鈍化膜），從而減少了電子與空穴的載流子復合。

阿爾托大學從2012年前后開始開發(fā)這項技術。2012年10月達到了18.2％的轉(zhuǎn)換效率，2013年4月提高到了18.7％。此次的試制品將轉(zhuǎn)換效率又提高了3個百分點以上，達到22.1％。此次試制的太陽能電池單元比較大，面積為225px2。此次能大幅提高轉(zhuǎn)換效率的原因是，在單元表面形成防復合膜時，采用原子層沉積法形成了氧化鋁層，并優(yōu)化了該層的厚度等，從而大幅減少了載流子復合。此次采用的是厚度為20nm的氧化鋁層。

這種太陽能電池采用了獨特的表面加工技術，因此，在波長為500～800nm的范圍內(nèi)，電池表面的可見光反射率幾乎低于0.5％?；诤诠杓夹g的太陽能電池非常適合在芬蘭等高緯度地區(qū)使用。